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用部分电离等离子体作表面处理

J W Coburn,  陈乐山

文章导航 > 力学进展  > 1992 >  22(4): 527-542
J W Coburn, 陈乐山. 用部分电离等离子体作表面处理[J]. 力学进展, 1992, 22(4): 527-542. doi: 10.6052/1000-0992-1992-4-J1992-050
引用本文: J W Coburn, 陈乐山. 用部分电离等离子体作表面处理[J]. 力学进展, 1992, 22(4): 527-542. doi: 10.6052/1000-0992-1992-4-J1992-050
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用部分电离等离子体作表面处理

doi: 10.6052/1000-0992-1992-4-J1992-050

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    摘要
  • 摘要: 部分电离的等离子体在多种技术领域中被广泛地用来加工处理形形色色的表面。本文所述的表面处理是指在表面沉积薄膜,对表面进行刻蚀,以及通过氧化、氮化或纹理化使现有表面改性。这种处理常可得到其他手段达不到的很独特的效果。作为活性气体的等离子体自身氛围环境的复杂性再加上与等离子体装置有关的参量空间很大,给工艺的发展与优化带来了困难,可是也为新发现和新发明提供了种种机会。部分电离等离子体可对大面积的待处理表面提供高能离子和/或种种活性的中性原子或基团的均匀流,这种能力可望在表面处理工艺中找到不断扩展的用武之地。

     

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  • 刊出日期:  1992-11-25

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